光刻技术:现在,然后

先进的光刻技术,需要打印超细功能芯片,是现代科技发展的主要推动者。有许多不同的光刻技术,与EUV认为现代领跑者领先世界上最先进的芯片。

美国实施了限制技术,公司可以提供一些中国实体,包括荷兰ASML公司生产的设备执行所需EUV光刻。这样做,美国(以及支持西方国家)希望大大阻碍中国实现最先进的半导体技术的能力。

实际上,限制触发创新总是在半导体进化和中国的中芯国际悄然实现了7海里没有EUV过程。

电子书,光刻:看门人技术独立和进步,TechInsights Sinjin Dixon-Warren检查关键光刻技术目前在使用或沉重的研究和开发。电子书包括专利持有的光刻设备和技术的讨论,这进一步评论中国应对EUV限制。

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